EDI超純水裝置

　　為了滿足電子行業用水需求，根據光電材料，液晶顯示屏生產，加工，清洗等所需使用超純水標準，而設計的一套超純水設備。

　　第一，EDI超純水設備出水符合標準

　　超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

　　第二，EDI超純水系統工藝流程

　　預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

　　第三，EDI應用領域

　　電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

　　電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

　　顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

　　黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

　　液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

　　晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

　　集成電路生產中高純水清洗硅片

　　半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

　　LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

　　高品質顯像管、螢光粉生產

　　半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

　　超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

　　實驗室和中試車間

　　汽車、家電表面拋光處理

　　光電產品、其他高科技精微產品